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    真空镀膜所使用的靶材有哪些?
    发布时间 :2014-07-10 浏览   :7987 次

      电子产品目前应用已日益广泛 ,而这些电子产品很多都需要真空镀膜机镀膜后才投入使用 ,目前常用的真空镀膜设备是磁控溅射真空镀膜机    ,在这里尊龙凯时人生就是搏来看一下在溅射中所使用的靶材 。

      一般尊龙凯时人生就是搏使用的靶材不外乎三种类型,金属靶材  、合金靶材 、化合物靶材  。

      硬碟使用的靶材有很多,在记录面上镀上多层的薄膜  ,每层薄膜有各自的功效 ,在最底层,会镀上40nm厚的铬或者铬合金,增强结合力和抗腐蚀能力 ,中间再镀上15nm厚的钴铬合金      ,再镀上35nm厚的钴合金 ,作为磁性材料  ,这种材料可以充分体现磁性和低干扰的特性 ,最后再镀上15nm厚的碳薄膜 。

      磁头的溅射靶材常用的是铁镍合金,后来又增加了一些新的化合物材料 ,像氮化铁  、氮化铁钽 ,氮化铁铝等   ,这些都是优质的磁介质膜层靶材 。

      CD碟片会用上铝膜作为反射层镀在塑料的工件上,但对于CDROM和DVDROM这些碟片   ,就不能使用铝膜了    。

      因为在这些碟片上会有一层染料层,上面的物质对于铝而言具有一定的腐蚀性 ,一般会由金膜或银膜替代          。

      光碟的膜层也是多层组成的   ,它在染料层上镀上30nm厚的铁钴合金记录层,里面混有非晶态稀土过渡元素  ,再镀上20到100nm厚的氮化硅介质层  ,最后镀上铝膜反射层  。

      这些需要落得磁性能,能够记录数据的电子产品  ,要实现这些功能,还是要靠各种不同物质所溅射而成的薄膜  ,靠其成膜后显示出来的晶体状态排序来实现。

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