真空离子镀膜是指在真空气氛中利用蒸发源或溅射靶使膜材蒸发或溅射

，蒸发或溅射出来的一部分粒子在气体放电空间中电离成金属离子，这些粒子在电场作用下沉积到基体上生成薄膜的一种过程 。

      其原理如图3所示 。首先将镀膜室压力抽真空至 10 -3pa 以下，然后通入工作气体使压力增大至 10^0-10^-1pa，接入高压
。由于作为阴极的蒸发源接地，基体接入可调节的负偏压，这时电源即可在蒸发源与基体间建立起低压气体放电的低温等离子区;电阻加热式蒸发源通电加热膜材后

，从膜材表面上逸出来的中性原子，在向基体迁移的过程中通过等离子体时

，一部分原子由于与电子碰撞而电离成正离子;另一部分与工作气体中的离子碰撞交换电荷后也可生成离子。这些离子在电场作用下被加速而射向接入负电位的基体后，即可生成薄膜

。

　　3.2 真空离子镀膜的特点

　　① 膜 /基结合力(附着力)强


，膜层不易脱落; ② 离子镀具有良好的绕射性

，从而改善了膜层的覆盖性;③ 镀层质量高;④ 沉积速率高





，成膜速度快


，可制备30微米的厚膜;⑤ 镀膜所适用的基体材料与膜材均比较广泛
。

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