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    动态和静态真空漏率区别是什么 ?
    发布时间:2015-01-16 浏览:6422 次

      动态真空系统允许漏率

      所谓动态真空系统    ,指工作时泵仍然对它 进行抽气的系统,如真空冶炼炉 ,真空镀膜机,粒子加速器等  。

      例如   :一台镀膜机 ,对蒸发室的有效抽速S为100L/S  ,要求达到的极限压力 P0 为1*10-5 帕  ,那么该镀膜机的允许漏率[Ql]=(1/10)SP0=1*10-4 帕升/秒

      静态真空系统的允许漏率

      所谓静态真空系统,即工作时已与泵隔离的真空系统 ,一般又称密闭容器或密闭器件    ,如显 像管 ,电子管等 。

      例如  :某只电子管 ,其内腔容积为 0.1L  ,封离时的压力 P0 为 1*10-7帕,电子管正常工作的最高压力P1为1*10-3 帕  ,要求器件保存和工作的时间T为 50000H   。

      那么 ,该电子管允许 漏率应为 [Ql]=(1/10)V ( P1-P0 ) /T=3.6*10-14 帕升/秒

     

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