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    常见的蒸发镀膜技术分析
    发布时间  :2014-12-01 浏览  :7371 次

      一   、电阻蒸发镀 :电阻蒸发源用于蒸发低熔点材料  ,如金 、银、硫化锌  、氟化镁、三氧化二铬等  。电阻蒸发源一般采用钨、钼、钽制作        。

      二 、电子束蒸发镀:利用电子束加热使膜材汽化蒸发后  ,凝结在基片表面成膜是真空蒸镀技术中一种重要的加热方法 。

    这种装置的种类很多   。随着薄膜技术的广泛应用,不但对膜的种类要求繁多,而且对膜的质量要求更加严格  。

      电阻蒸发镀已不能满足蒸镀某些金属和非金属的需要  。电子束热源能获得远比电阻热源更大的能量密度 ,数值可达到104-109w/cm2 ,因此可以将膜材加热至3000-6000c 。

      这就为蒸发难熔金属和非金属材料如钨 、钼、锗  、SiO2、AI2O3等提供了较好的热源    。而且由于被蒸镀的材料是放在水冷坩埚内 ,因而可避免容器材料的蒸发及容器材料与膜材之间的反应,这对提高膜的纯度是极为重要的 。

      另外 ,热量可直接加到膜材表面上,因此热效率高 ,热传导和热辐射损失少。

      三  、电弧加热蒸发镀:与电子束加热方式相类似的一种加热方式是电弧放电加热法  。它也具有可以避免电阻加热材料或坩埚材料的污染,加热温度较高的特点 ,特别适用 于熔点高,同时具有一定导电性的难熔金属、石墨等的蒸发 。

      同时,这一方法所用的设备比电子束加热装置简单,因而是一种较为廉价的蒸发装置。

      四 、激光束蒸发镀  :采用高功率密度脉冲激光对材料进行蒸发 ,用以形成薄膜的方法  ,一般称为激光蒸镀

      五、高频感应加热蒸发镀 :利用感应加热原理把金属加热到蒸发温度    。

      将装有膜层材料的坩埚放在螺旋线圈的中央,在线圈中通以高频电流 ,可以使金属膜层材料产生电流将自身加热升温,直至蒸发 。

      感应加热蒸发源的特点   :

      1、蒸发速率大

      2、蒸发源温度均匀稳定,不易产生铝滴飞溅现象

      3 、蒸发源一次装料,无须送丝机构,温度控制比较容易,操作简单

      4、对膜材纯度要求略宽些 。

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