以溅射的方法进行真空镀膜，由于其镀膜方式的不同
，同样的镀材所制备的薄膜效果也会不一样的，虽然肉眼无法看出来，但确实拥有一定的优势



。

　　膜厚稳定性好，由于溅射镀膜膜层的厚度与靶电流和放电电流具有很大的关系

，电流越高
，溅射效率越大，相同时间内

，所镀膜层的厚度相对就大了
，因为只要把电流数值控制好
，需要镀多厚，或者多薄的膜层都可以了，当然这个厚度是在可允许的范围内，而且控制好电流，无论重复镀多少次
，膜层厚度都不会变化，膜厚的稳定性可归结为膜厚良好的可控性和重复性。

　　膜层结合力强，在溅射过程中，有部分电子撞击到基材表面



，激活表面原子

，并且产生清洁的作用，而镀材通过溅射所获得的能量比蒸发所获得的能量高出1到2个数量级，带有如此高能量的镀材原子撞击到基材表面时，有更多的能量可以传递到基材上

，产生更多的热能


，使被电子激活的原子加速运动
，与部分镀材原子更早互相溶合到一起
，其他镀材原子紧随着陆续沉积成膜
，加强了膜层与基材的结合力


。

　　镀材范围广



，由于溅射镀膜是通过氩离子的高速轰击使镀材溅射出来的，不像蒸发镀膜由于熔点的原因而限制只能使用熔点比较低的镀材



，而溅射镀膜几乎所有固体的物质都可以成为镀材



。

　　由以上几点可以看出溅射真空镀膜确实比蒸发真空镀膜的效果好，其原理的不同决定了溅射制备的膜层厚度更稳定


，结合力更强
，镀材范围更广
。