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    真空镀膜机有哪些主要特点与用途 ?
    发布时间  :2014-02-08 浏览   :5469 次

        真空镀膜机由真空镀膜室、蒸发源  、真空机组  、卡具、蒸发电源 、控制系统与辅助装置等组成。

      主要特点 :

      1  、配有石英晶体或光学膜厚控制仪  ,可以实现膜厚镀膜自动控制,实现高精度的镀膜效果    。

      2、配RF离子轰击装置达到净化基体表面的作用  ,使膜与基体表面附着力更好   ,提高膜层的强度 。

      3  、可同时蒸镀两种以上不同的蒸镀材料 ,可制成复合膜       。

      4  、操作简便 、适应生产 、科研的理想机 。

      5 、具有过流、过压保护及断水  、欠压保护及电气互锁的功能  。

     

      真空镀膜机可采用电阻加热式蒸发源   、电子束加热式蒸发源和感应加热式蒸发源。可以蒸发金属、金属氧化物和非金属氧化物 ,适用于电子工业、光学工业的导电膜   、光学膜   、滤光膜  、装饰膜等

     

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